ASML第三季財報：高數值孔徑極紫外光刻機邁向量產，全年營收指引上調至440至450億歐元

ASML執行長傅恪禮表示High-NA EUV正從研發邁向量產，客戶進度提供設備投資下一階段時間表。英特尔已用High-NA EUV曝光超過100萬片晶圓，三星目標2028年大規模量產，台积电目標2030年用於先進邏輯。ASML預估2027年低NA EUV與浸潤式DUV產能各年增30%，第三季淨銷售約117億歐元、毛利57.5%、淨利約50億歐元，全年營收指引上調至440至450億歐元。